- Tytuł:
- Wytwarzanie i charakteryzacja cienkich warstw tlenku hafnu dla zastosowań w technologii MOSFET w węgliku krzemu
- Współwytwórcy:
-
Płuska, Mariusz
Łaszcz, Adam
Mroczyński, Robert
Instytut Technologii Elektronowej
Gutt, Tomasz
Małachowski, Tomasz
Wzorek, Marek
Pasternak, Iwona
Rzodkiewicz, Witold
Gierałtowska, Sylwia
Dynowska, Elżbieta
Sochacki, Mariusz
Taube, Andrzej
Politechnika Warszawska. Wydział Elektroniki i Technik Informacyjnych. Instytut Mikroelektroniki i Optoelektroniki
Korwin-Mikke, Katarzyna
Piotrowska, Anna
Szmidt, Jan
Instytut Fizyki PAN - Data publikacji:
- 2011
- Dostawca treści:
- Academica
Artykuł