- Tytuł:
- Applying shallow nitrogen implantation from rf plasma for dual gate oxide technology
- Współwytwórcy:
-
Beck, Romuald B.
Konarski, Piotr
Głuszko, Grzegorz
Bieniek, Tomasz
Ćwil, Michał
Jakubowski, Andrzej - Data publikacji:
- 2007
- Dostawca treści:
- Academica
Artykuł