- Tytuł:
- Properties of thin films of high-k oxides grown by atomic layer deposition at low temperature for electronic applications
- Autorzy:
-
Gieraltowska, S
Wachnicki, Ł
Witkowski, B S
Godlewski, M
Guziewicz, E - Tematy:
-
high-k oxides
composite layers
atomic layer deposition
transparent electronics
zinc oxide - Data publikacji:
- 2013
- Wydawca:
- Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
- Język:
- angielski
- Prawa:
- CC BY: Creative Commons Uznanie autorstwa 4.0
- Źródło:
-
Optica Applicata; 2013, 43, 1; 17-25
0078-5466
1899-7015 - Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki
- Artykuł